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5 feb. 2016
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El chileno Matías Hernán participará en la Semana de la Moda de Nueva York

Publicado el
5 feb. 2016

El diseñador chileno Matías Hernán está listo para presentar sus creaciones en el "Digital Couture Project - Epson New York Fashion Week 2016", que se realizará durante la semana de la moda de Nueva York que comienza el próximo 10 de febrero. 

Los participantes tuvieron que elaborar sus creaciones con la moderna herramienta tecnológica de la sublimación digital de telas. - Amazonaw


En la segunda edición de la pasarela organizada por Epson, el ganador de Project Runway LatinAmerica 2013 presentará una minicolección de cuatro tenidas de temporada otoño, bajo el concepto de "Armonía y paz a través de la moda".

Sus diseños serán impresos en la nueva SureColor Línea F, un equipo de alta flexibilidad cuyo mayor provecho dependerá de las capacidades creativas de los modistos. 

Matías Hernán se une a los demás representantes de América Latina en el “Digital Couture Project”: Fabrizzio Berrocal, de Costa Rica; Gustavo Moscoso, de Ecuador; María de Lourdes Ramírez e Isabel Navarro Landa, de México, Felipe Santamaría Luque, de Colombia; Agostina Orlandi y Ludmila Osikovsky, de Argentina; Janet Ríos y Carmen Artica, de Perú; y Fabio Yukio, de Brasil.

Según representantes de Epson, “Digital Couture Project” mostrará la asombrosa y creativa reproducción a color que los diseñadores son capaces de lograr con la tecnología de impresión textil, el cual tiene un valor de mercado de 7.5 billones de dólares, con proyecciones de crecimiento a más de un 34% en todo el mundo.

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